品質保證嚴格把關
靶材

靶材(target)是薄膜濺鍍製程的主要材料,通常用高純度化合物或純金屬製成。

隨著電子產品趨向輕薄化,傳統電鍍製程需必須用較厚的膜層才能取得鍍膜的均勻性,但薄膜濺鍍製程卻可以用極小的膜層厚度來達到所需的特性,不僅可節省材料資源,也可避免環保爭議問題,目前薄膜濺鍍應用領域不斷擴展,濺鍍靶材的種類及使用量也隨之增加。

濺鍍除可達到耐磨、耐蝕、裝飾之目的外,更可應用在光碟上作為反射層以拾取信號,目前台灣應用薄膜濺鍍製程的相關產業包括光記錄媒體、平面顯示器、半導體等,規模均領先全世界,靶材需求數量也隨著高科技產業發展,市場急速擴大,台灣已成為全世界薄膜濺鍍靶材最大消費區域。

有研亿金專注於物理氣相沉積薄膜材料的市場需求和技術發展,研發和生產多種高純金屬、合金、陶瓷及創新材料的蒸發和濺射薄膜材料,服務於半導體製造、磁記錄、平面顯示和太陽能等產業。

規格按客戶要求定制生產

高純銅濺射靶材

採用公司自主熔煉的高純銅為原材料並通過特殊的熱機械處理工藝實現靶材良好的微觀組織結構

純度:5N, 6N

微觀組織:晶粒均勻等軸一致性高平均晶粒尺寸<50 μm

其他規格按客戶要求定制生產

高純鈦濺射靶材

採用高純鈦為原材料,並通過特殊的熱機械處理工藝來保證靶材良好的微觀組織結構。

純度:4N5, 5N

微觀組織:晶粒均勻等軸,一致性高,平均晶粒尺寸<20 μm

其他規格按客戶要求定制生產。

高純鉭濺射靶材

採用高純鉭為原材料,並通過特殊的熱機械處理工藝來保證靶材良好的微觀組織結構。

純度:4N, 4N5

微觀組織:晶粒均勻等軸,一致性高,平均晶粒尺寸<100 μm

其他規格按客戶要求定制生產。

高純鎳合金濺射靶材

使用高純鎳及鉑為原材料,通過熔煉澆鑄成錠,經熱機械處理和精密機械加工製造而成

純度:3N5, 4N, 4N5

規格可按客戶要求定制生產

純度:3N5, 4N, 4N5, 5N

其他規格按客戶要求定制生產。

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